三星与东进半导体合作开发成功EUV光刻胶
作者 | 物联网智库2021-12-21

EUV光刻工艺除了需要EUV光刻机之外,也需要配套的EUV光刻胶,目前这一市场也主要被日本厂商垄断,现在三星与韩国半导体厂商东进合作开发成功EUV光刻胶,已经通过验证。

东进半导体19日宣布,近期通过了三星电子的EUV PR(光刻胶)可靠性测试。

消息人士称,东进半导体在其位于京畿道华城的工厂开发了EUV PR,并在三星电子华城 EUV生产线上对其进行了测试,并已通过可靠性测试。

光刻胶

PR,也称为光刻胶,是半导体曝光工艺中的关键材料。

它应用于芯片上,当用半导体曝光设备照射光时,会发生化学反应并改变物理性质,通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路,只留下必要的部分。

2019年,日本与韩国爆发争议之后曾经限制三种重要的半导体材料对韩国的出口,EUV光刻胶就是其中之一,为此韩国公司也加快了EUV光刻胶的研发。

虽然已经通过了测试,不过三星是否会在EUV生产线上立即使用东进半导体的EUV光刻胶还不确定,三星及东进拒绝表态。


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